クリーンテクノロジー講座:半導体市場の動向とクリーンテクノロジー
*本講座の開催案内はこちらからダウンロードも可能です。
1.趣旨
クリーンルームに代表される建物空間の空気清浄化技術は、半導体を中心とする電子デバイス産業、精密機械産業を始め、医薬品産業、食品産業等の分野で不可欠な基盤技術の一つです。そこには製品の品質確保を実現する設計・施工技術が要求され、また、それらを実現するための省エネルギー、ローコスト、アウトガス・静電気・微振動制御といった技術が注目されています。更に、クリーンルームのISO基準作成も進められています。近年、特に半導体市場は、AI・データセンター等により大きな成長が予測されており、最新のクリーンルームの設計・施工・管理技術、規格動向等が必要とされております。
日本空気清浄協会では、公益目的事業の一つとしてクリーンテクノロジー講座を開催しております。今回は、「半導体市場の動向とクリーンテクノロジー」と題し、3名の講師に、半導体市場の変化、半導体製造に関わる汚染制御および清浄化技術、クリーンルーム関連規格と最近の技術動向を中心とした講演をして戴きます。クリーンルームの設計、施工、および管理運営をされておられる方々に奮ってご参加いただきたくご案内申し上げます。
2026年10月
公益社団法人日本空気清浄協会
会 長 藤井修二
事業委員 市原真希
事業委員 森重公康
2.日時
2026年12月8日(火)
受付:13時より 開講:13時30分
3.場所
日本教育会館 808号室
東京都千代田区一ツ橋2-6-2
TEL 03-3230-2831
*アクセスマップについては、こちらをご参照ください。
※WEB(ZOOM)での受講も可能です。
4.主催
(公社)日本空気清浄協会
5.参加費(税込)
| 会 員 | 非 会 員 |
| 16,500円 (内消費税1,500円) |
22,000円 (内消費税2,000円) |
一名につき テキスト代を含む。
*12月1日までにお振り込みください。
6.定員
15名(会場)
7.申込方法
申込書をお持ちの方
必要事項ご記入後(公社)日本空気清浄協会までFax(03-3665-5593)、E-mail(jaca@jaca-1963.or.jp)または郵送にてお送りください。
申込書をお持ちでない方
お申込FAX用紙を印刷して内容ご記入の上お送りください。その際、「その他連絡事項」欄にご希望の受講方法(会場、WEB(ZOOM))を明記ください。
E-mail
「クリーンテクノロジー講座申込」、氏名、会社名、所属、所在地、電話、FAX、申込種別(会員、非会員)、希望受講方法(会場、WEB(ZOOM))を明記の上、jaca@jaca-1963.or.jpまで送信ください。
申込フォーム
イベント申込フォームより、内容ご記入の上、送信ボタンを押してください。その際、「その他連絡事項」欄にご希望の受講方法(会場、WEB(ZOOM))を明記ください。
・受付後、請求書を発行致します。
・ご入金は、銀行振込又は郵便振替にてお願いします。
・事前にご連絡なく欠席された場合は、テキスト送付に代えて参加費をいただきますので、どうぞご了承ください。また、テキスト送付後の参加申込キャンセルは受付出来ません。
8.申込先
公益社団法人日本空気清浄協会
〒103-0007 東京都中央区日本橋浜町2-7-5 伊藤紅浜町ビル3階
TEL 03-3665-5591 FAX 03-3665-5593
E-mail jaca@jaca-1963.or.jp
9.プログラム(敬称略)
| 講師:鈴木寿哉(Omdia) | 時間:13:30~14:30 |
| 【講演題目】 AI需要がもたらす半導体市場の構造変化と展望 1. AIが変える半導体市場 2. 半導体市場の構造変化と今後の展望 |
【内容】 半導体市場が今、AI需要に喚起されかつて経験したことのない世界に突入した。この背景を探るとともに、今後予想される半導体市場の変化とコンシューマ市場への与える影響を考察する。 |
| 休 憩 5 分 | |
| 講師:白水好美(オフィスシラミズ) | 時間:14:35~15:35 |
| 【講演題目】 半導体製造に関わる汚染制御および清浄化技術 1. 国際的な半導体製造ロードマップ 2. 各種汚染の半導体デバイスに与える影響 3. 洗浄乾燥技術 4. 今後のクリーン化技術の課題 |
【内容】 半導体集積回路は微細化によって性能、消費電力、容量、コストが驚異的に改善されてきた。これにより歩留低下要因として、パーティクルのみならず金属汚染及び有機無機分子汚染の制御が世代を増すごとに必要となってきた。それに伴い、国際的な半導体製造のためのロードマップの活動も盛んになってきている。IRDS/YEロードマップ活動を踏まえて歩留改善・維持のために各種汚染へのデバイスへの影響とその制御レベル、洗浄乾燥技術について解説する。 |
| 休 憩 5 分 | |
| 講師:諏訪好英(D.Y.S.テクノロジー) | 時間:15:40~16:20 |
| 【講演題目】 クリーンルーム関連規格と最近の技術動向 1. クリーンルーム関連規格(ISO、JIS)の最近の動向 2. クリーンルーム気流と空気交換性能の評価指標 3. 半導体製造プロセスへの適用事例 |
【内容】 クリーンルーム関連のISO規格(ISO14644シリーズ)では新規規格の作成や改訂作業が行われている。これに合わせてJISの整備も随時進められており、本講ではこれらの最近の状況を概説する。またその中で清浄度回復特性試験として扱われている空気交換性能の評価手法は、クリーンルーム気流性能の評価のみならず、屋内の換気性能評価や、成膜装置チャンバー内におけるガス流れの評価にも適用できる。本講ではその基本的な考え方と適用事例についても紹介する。 |
| この講座は、(公社)空気調和・衛生工学会及び(一社)建築設備技術者協会のCPDシステムのポイントの対象となります。 |
